電子化學(xué)試劑按照純度：
UP級:適用1微米集成電路及TFT-LCD制造工藝,金屬雜質(zhì)含量小于10ppb,經(jīng)過0.2微米孔徑過濾器過濾,控制0.5微米粒子,在100級凈化環(huán)境中灌裝,達到SEMI C7標(biāo)準(zhǔn)
MOS級化學(xué)試劑是“金屬-氧化物-半導(dǎo)體”(Metal-oxide-semiconductor)電路專用的特純試劑的簡稱,是為適應(yīng)大規(guī)模集成電路(LSI)的生產(chǎn)而出現(xiàn)的一個新的試劑門類.它屬于生產(chǎn)金屬氧化物半導(dǎo)體電路專用的化學(xué)品,是一種高純試劑.其純度要求單項金屬離子雜質(zhì)含 量均在10-7%~10-9%范圍內(nèi).而更重要的是控制產(chǎn)品內(nèi)微粒雜質(zhì)（即塵埃和不溶顆粒）的個數(shù),應(yīng)當(dāng)符合美國材料試驗學(xué)會（ASTM）“0”級標(biāo)準(zhǔn),即對5~10微米大小的顆粒,每100毫升中最大允許在2700個以下,而對5微米大小的顆粒,要求在304個以下.