基本原理 在光學(xué)顯微鏡下無法看清小于0.2m的細(xì)微結(jié)構(gòu),這些結(jié)構(gòu)稱為亞顯微結(jié)構(gòu)（submicroscopic structures）或超微結(jié)構(gòu)（ultramicroscopic structures；ultrastructures）.要想看清這些結(jié)構(gòu),就必須選擇波長更短的光源,以提高顯微鏡的分辨率.1932年Ruska發(fā)明了以電子束為光源的透射電子顯微鏡（transmission electron microscope,TEM）,電子束的波長要比可見光和紫外光短得多,并且電子束的波長與發(fā)射電子束的電壓平方根成反比,也就是說電壓越高波長越短.目前TEM的分辨力可達(dá)0.2nm.電子顯微鏡（圖2-12）與光學(xué)顯微鏡的成像原理基本一樣,所不同的是前者用電子束作光源,用電磁場作透鏡.另外,由于電子束的穿透力很弱,因此用于電鏡的標(biāo)本須制成厚度約50nm左右的超薄切片.這種切片需要用超薄切片機（ultramicrotome）制作.電子顯微鏡的放大倍數(shù)最高可達(dá)近百萬倍、由電子照明系統(tǒng)、電磁透鏡成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)等5部分構(gòu)成