（4）二氧化硅是硅的一種化合 物,硅單質及其化合物的用途極其廣 泛,制備硅半導體材料必須先得到高 純硅,三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法 是當前制備高純硅的主要方法,生產 過程示意圖如下：①寫出由SiHCl3制備高純硅的反 應方程式：.②在
（4）二氧化硅是硅的一種化合 物,硅單質及其化合物的用途極其廣 泛,制備硅半導體材料必須先得到高 純硅,三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法 是當前制備高純硅的主要方法,生產 過程示意圖如下：①寫出由SiHCl3制備高純硅的反 應方程式：.②在制粗硅的反應中,焦炭的作 用是 .
化學人氣：268 ℃時間：2020-05-20 01:02:09
優(yōu)質解答
SiHCl3+H2=高溫=Si+3HCl焦炭的作用是當還原劑
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