原干涉條紋（左側(cè)對應(yīng)為尖角位置,實線為亮紋,虛線為暗紋,且假設(shè)第二條亮紋對應(yīng)的垂直位置上物體表面不平整） ：
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（2） 檢驗條紋（ 物體表面凸起時）
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（3） 檢驗條紋（ 物體表面凹陷時）
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原理大致可以理解為,當物體表面凸起時,被薄膜反射出的兩列頻率相同的光在同一垂直方向上相干（具體內(nèi)容就不細說了）.
此時垂直方向上兩列相干波的相位差恒定,等于這一位置上下兩板距離的兩倍.
若這一位置的表面凸起,則可認為此位置上兩列波的波程差變小了,因此干涉條紋趨向波程差逐漸減小的尖角方向,也就是左側(cè)（具體現(xiàn)象如上圖示）
同理,若凹陷則趨向右.
這是別人的解答.