Low-E玻璃又稱低輻射玻璃,是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產(chǎn)品.其鍍膜層具有對(duì)可見光高透過(guò)及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性,使其與普通玻璃及傳統(tǒng)的建筑用鍍膜玻璃相比,具有優(yōu)異個(gè)隔熱效果和良好的透光性
目前的兩種Low-E玻璃生產(chǎn)方法 　　在線高溫?zé)峤獬练e法： 　　在線高溫?zé)峤獬练e法"Low-E"玻璃在美國(guó)有多家公司的產(chǎn)品.如PPG公司的 Surgate200,福特公司的Sunglas H．R"P".這些產(chǎn)品是在浮法玻璃冷卻工藝過(guò)程中完成的.液體金屬或金屬粉沫直接噴射到熱玻璃表面上,隨著玻璃的冷卻,金屬膜層成為玻璃的一部分 .固此,該膜層堅(jiān)硬耐用.這種方法生產(chǎn)的"Low-E"玻璃具有許多優(yōu)點(diǎn)：它可以熱彎,鋼化,不必在中空狀態(tài)下使用,可以長(zhǎng)期儲(chǔ)存.它的缺點(diǎn)是熱學(xué)性能比較差 .除非膜層非常厚,否則其"u"值只是濺射法"Low-E"鍍膜玻璃的一半.如果想通過(guò)增加膜厚來(lái)改善其熱學(xué)性能,那么其透明性就非常差. 　　離線真空濺射法 　　離線法生產(chǎn)Low-E玻璃,是目前國(guó)際上普遍采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù).和高溫?zé)峤獬练e法不同,濺射法是離線的.且據(jù)玻璃傳輸位置的不同有水平及垂直之分. 　　濺射法工藝生產(chǎn)"Low-E"玻璃,需一層純銀薄膜作為功能膜.純銀膜在二層金屬氧化物膜之間.金屬氧化物膜對(duì)純銀膜提供保護(hù),且作為膜層之間的中間層增加顏色的純度及光透射度. 　　垂直式生產(chǎn)工藝中,玻璃垂直放置在架子上,送入10-1帕數(shù)量級(jí)的真空環(huán)境中,通入適量的工藝氣體（惰性氣體Ar或反應(yīng)氣體O2、N2）,并保持真空度穩(wěn)定.將靶材Ag、Si等嵌入陰極,并在與陰極垂直的水平方向置入磁場(chǎng)從而構(gòu)成磁控靶.以磁控靶為陰極,加上直流或交流電源,在高電壓的作用下,工藝氣體發(fā)生電離,形成等離子體.其中,電子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下,進(jìn)行高速螺旋運(yùn)動(dòng),碰撞氣體分子,產(chǎn)生更多的正離子和電子；正離子在電場(chǎng)的作用下,達(dá)到一定的能量后撞擊陰極靶材,被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜.為了形成均勻一致的膜層,陰極靶靠近玻璃表面來(lái)回移動(dòng).為了取得多層膜,必須使用多個(gè)陰極,每一個(gè)陰極均是在玻璃表面來(lái)回移動(dòng),形成一定的膜厚. 　　水平法在很大程度上是和垂直法相似的.主要區(qū)別在玻璃的放置,玻璃由水平排列的輪子傳輸,通過(guò)陰極,玻璃通過(guò)一系列銷定閥門之后,真空度也隨之變化.當(dāng)玻璃到達(dá)主要濺射室時(shí),鍍膜壓力達(dá)到,金屬陰極靶固定,玻璃移動(dòng).在玻璃通過(guò)陰極過(guò)程中,膜層形成. 　　目前,國(guó)產(chǎn)和絕大部分進(jìn)口磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的目標(biāo)產(chǎn)品均是以鍍制單質(zhì)膜和金屬膜為主的陽(yáng)光控制膜玻璃.這類產(chǎn)品工藝相對(duì)簡(jiǎn)單,對(duì)設(shè)備的要求較低.因此,這些生產(chǎn)線不能滿足鍍制LOW-E玻璃的要求. 　　濺射法生產(chǎn)"Low－E"玻璃,具有如下特點(diǎn)： 　　由于有多種金屬靶材選擇,及多種金屬靶材組合,因此,濺射法生產(chǎn)"Low-E"玻璃可有多種配置.在顏色及純度方面,濺射鍍也優(yōu)于熱噴鍍,而且,由于是離線法,在新產(chǎn)品開發(fā)方面也較靈活 .最主要的優(yōu)點(diǎn)還在于濺射生產(chǎn)的"Low-E"中空玻璃其"u"值優(yōu)于熱解法產(chǎn)品的"u"值,但是它的缺點(diǎn)是氧化銀膜層非常脆弱,所以它不可能象普通玻璃一樣使用.它必須要做成中空玻璃,且在未做成中空產(chǎn)品以前,也不適宜長(zhǎng)途運(yùn)輸.